?磁控濺射儀?廣泛應用于材料科學、表面工程以及微電子等領(lǐng)域。它的工作原理基于高能粒子轟擊靶材,使靶材原子或分子濺射并沉積在基體上,形成一層薄膜。磁控濺射儀以其高效、均勻且可控的濺射過程,成為了制備高質(zhì)量薄膜材料的**工具。磁控濺射儀的核心部分包括真空室、濺射電源、靶材、基體以及磁場控制系統(tǒng)等。在濺射過程中,靶材被放置在陰極上,基體則置于陽極附近。當電場施加于陰極和陽極之間時,電子在電場作用下加速并飛向靶材。在這個過程中,電子與氬原子發(fā)生碰撞,產(chǎn)生Ar正離子和新的電子。Ar正離...
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