磁控離子濺射儀廣泛應用于各種材料的表面鍍膜,包括金屬、半導體、絕緣體等。其優(yōu)點包括設備簡單、易于控制、鍍膜面積大、附著力強等。此外,磁控離子濺射技術還具有沉積溫度低、沉積速度快、薄膜均勻性好等特點,適用于各種需要薄膜的工業(yè)和科研領域?。磁控離子濺射儀基于物理氣相沉積(PVD)技術,其工作原理是利用輝光放電產生等離子體,并通過磁場約束帶電粒子,提高濺射效率。在電場的作用下,電子加速飛向基片,與氬原子碰撞,使其電離產生氬離子和新的電子。氬離子在電場作用下加速轟擊靶材,使靶材表面的...
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